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恭喜合肥晶合集成电路股份有限公司陈维邦获国家专利权

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龙图腾网恭喜合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119403258B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411987483.9,技术领域涉及:H10F39/18;该发明授权背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器是由陈维邦设计研发完成,并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器在说明书摘要公布了:本公开涉及一种背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器,涉及集成电路技术领域,包括:提供包括第一顶面的衬底,衬底的第一顶面包括沿平行于衬底第一顶面的第一方向交替排布的第一隔离叠层、第一感光叠层;第一感光叠层包括沿背离衬底的第二方向交替层叠的至少三层子感光层;于多个第一感光叠层的正上方形成多个第二感光叠层的过程中,于多个第一隔离叠层的正上方形成多个第二隔离叠层;第二感光叠层包括沿第二方向交替层叠的至少两层子感光层;于多个第二隔离叠层的正上方形成多个格栅叠层后,于沿第一方向相邻的格栅叠层之间形成滤光片。本实施例增加了感光区域的电子浓度,提高了BSI图像传感器的感光性能。

本发明授权背照式图像传感器制备方法及背照式图像传感器在权利要求书中公布了:1.一种背照式图像传感器制备方法,其特征在于,包括:提供包括第一顶面的衬底,所述第一顶面包括沿平行于所述第一顶面的第一方向交替排布的第一隔离叠层、第一感光叠层;所述第一感光叠层包括沿背离所述衬底的第二方向交替层叠的至少三层子感光层;于多个所述第一感光叠层的正上方形成多个第二感光叠层的过程中,于多个所述第一隔离叠层的正上方形成多个第二隔离叠层;所述第二感光叠层的平行于所述第二方向的截面呈倒梯形;所述第二感光叠层包括沿所述第二方向交替层叠的至少两层子感光层;所述第二感光叠层与邻接的所述第二隔离叠层之间用于形成PN结;沿所述第二方向相邻的子感光层包含不同五价元素;于多个所述第二隔离叠层的正上方形成多个格栅叠层后,于沿所述第一方向相邻的所述格栅叠层之间形成滤光片;形成沿所述第一方向交替排布的第一隔离叠层、第一感光叠层,包括:于所述第一顶面上形成沿所述第一方向交替排布的隔离层、第一半导体层;于所述第一半导体层顶面形成第二初始半导体层后,于沿所述第一方向相邻的所述第二初始半导体层之间形成介电层,所述介电层的顶面齐平于所述第二初始半导体层的顶面;沿所述第二方向层叠的隔离层、介电层用于构成所述第一隔离叠层;采用第一次固相扩散工艺对所述第二初始半导体层顶部进行掺杂处理,得到第三半导体层,剩余的第二初始半导体层用于构成第二半导体层;沿所述第二方向依次层叠的所述第一半导体层、所述第二半导体层及所述第三半导体层用于构成所述第一感光叠层。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人合肥晶合集成电路股份有限公司,其通讯地址为:230012 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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