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恭喜西安晟光硅研半导体科技有限公司杨森获国家专利权

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龙图腾网恭喜西安晟光硅研半导体科技有限公司申请的专利一种微射流激光设备的双波段加工头及其聚焦调控方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119159224B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411676720.X,技术领域涉及:B23K26/046;该发明授权一种微射流激光设备的双波段加工头及其聚焦调控方法是由杨森;周立;张聪;陈磊;刘弘光;李高明设计研发完成,并于2024-11-22向国家知识产权局提交的专利申请。

一种微射流激光设备的双波段加工头及其聚焦调控方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种微射流激光设备的双波段加工头及其聚焦调控方法,属于微射流激光设备领域,包括第一激光发射器、第二激光发射器、主二向色分束镜、双波段反射镜组、喷头以及成像模组;第一激光发射器用于发射第一光束,第二激光发射器用于发射第二光束,主二向色分束镜用于反射第一光束并透射第二光束;第一光束经主二向色分束镜反射至双波段反射镜组,并经双波段反射镜组反射至喷头,第二光束经主二向色分束镜透射至双波段反射镜组,并经双波段反射镜组反射至喷头;喷头的上表面设有喷孔,第一光束和第二光束经喷头的上表面反射至双波段反射镜组,并经双波段反射镜组透射至成像模组,从而能够提高加工头的加工效率。

本发明授权一种微射流激光设备的双波段加工头及其聚焦调控方法在权利要求书中公布了:1.一种微射流激光设备的双波段加工头的聚焦调控方法,其特征在于,包括微射流激光设备的双波段加工头,所述双波段加工头包括第一激光发射器、第二激光发射器、主二向色分束镜、双波段反射镜组、喷头以及成像模组,所述第一激光发射器用于发射第一光束,所述第二激光发射器用于发射第二光束,所述主二向色分束镜用于反射第一光束并透射第二光束,所述双波段反射镜组和所述主二向色分束镜相对设置,所述喷头和所述双波段反射镜组的第一侧相对设置,所述成像模组和所述双波段反射镜组的第二侧相对设置,所述第一光束经所述主二向色分束镜反射至所述双波段反射镜组,并经所述双波段反射镜组反射至所述喷头,所述第二光束经所述主二向色分束镜透射至所述双波段反射镜组,并经所述双波段反射镜组反射至所述喷头,所述喷头的上表面设有喷孔,所述第一光束和所述第二光束经所述喷头的上表面反射至所述双波段反射镜组,并经所述双波段反射镜组透射至所述成像模组,所述方法包括:根据所述成像模组中的图像信息,调节所述喷头处的第一光束和第二光束的聚焦光斑大小和位置,以使所述第一光束的聚焦光斑和所述第二光束的聚焦光斑均处于最小状态且二者重合;根据所述成像模组中的图像信息,调节所述双波段反射镜组的反射角度,以使所述第一光束的聚焦光斑、第二光束的聚焦光斑以及喷头的喷孔重合;其中,所述成像模组包括副二向色分束镜、第一相机、第一成像镜头、第二相机以及第二成像镜头,所述副二向色分束镜用于反射第一光束并透射第二光束,所述第一光束经所述双波段反射镜组透射至所述副二向色分束镜,并经所述副二向色分束镜反射至所述第一成像镜头,再经所述第一成像镜头进入所述第一相机,所述第二光束经所述双波段反射镜组透射至所述副二向色分束镜,并透过所述副二向色分束镜传播至所述第二成像镜头,再经所述第二成像镜头进入所述第二相机;所述双波段加工头还包括第一反射镜、第二反射镜以及第三反射镜,所述第一反射镜和所述第一激光发射器相对设置,所述第三反射镜和所述主二向色分束镜相对设置,所述第一光束经所述第一反射镜反射至所述第二反射镜,并经所述第二反射镜反射至所述第三反射镜,再经所述第三反射镜反射至所述主二向色分束镜;所述双波段加工头还包括第一准直镜和第二准直镜,所述第一准直镜设置于所述第一反射镜和所述第一激光发射器之间,所述第一准直镜用于对所述第一激光发射器发出的光束进行准直以形成平行光束,所述第二准直镜设置于所述主二向色分束镜和所述第二激光发射器之间,所述第二准直镜用于对所述第二激光发射器发出的光束进行准直以形成平行光束;所述双波段反射镜组包括第一双波段反射镜和第二双波段反射镜,所述第一双波段反射镜具有第一面和第二面,所述主二向色分束镜和所述第二双波段反射镜均朝向所述第一双波段反射镜的第一面,所述成像模组朝向所述第一双波段反射镜的第二面;所述的根据所述成像模组中的图像信息,调节所述喷头处的第一光束和第二光束的聚焦光斑大小和位置,具体包括:步骤一:调节所述第二成像镜头以使所述第二相机中的图像达到所需的清晰度;步骤二:观察所述第二相机的图像中所述第二光束的聚焦光斑的大小,通过调节所述第二激光发射器和所述第二准直镜之间的距离,以缩小所述第二相机的图像中所述第二光束的聚焦光斑的大小,并将所述第二光束的聚焦光斑的中心点作为标记点;步骤三:调节所述第一成像镜头以使所述第一相机中的图像达到所需的清晰度;步骤四:观察所述第一相机的图像中所述第一光束的聚焦光斑的大小,通过调节所述第一激光发射器和所述第一准直镜之间的距离,以缩小所述第一相机的图像中所述第一光束的聚焦光斑的大小;步骤五:观察所述第一相机的图像中所述第一光束的聚焦光斑和所述标记点之间的位置,调节所述第一反射镜、第二反射镜和第三反射镜中的至少一个的倾斜角度,以使所述第一光束的聚焦光斑的中心和所述标记点重合;步骤六:重复步骤一至步骤五,直至所述第一光束的聚焦光斑和所述第二光束的聚焦光斑均处于最小状态且二者重合;所述的根据所述成像模组中的图像信息,调节所述双波段反射镜组的反射角度,以使所述第一光束的聚焦光斑、第二光束的聚焦光斑以及喷头的喷孔重合,具体包括:观察所述第一相机或所述第二相机的图像中所述喷孔和所述标记点之间的位置,调节所述第二双波段反射镜的倾斜角度,以使所述喷孔的中心和所述标记点重合。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人西安晟光硅研半导体科技有限公司,其通讯地址为:710100 陕西省西安市国家民用航天产业基地航天南路中国电科西安产业园6号楼3楼东侧;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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