恭喜福建省晋华集成电路有限公司吴维维获国家专利权
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龙图腾网恭喜福建省晋华集成电路有限公司申请的专利掩膜版、其图形修正方法、存储介质及器件制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112731756B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110070645.2，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权掩膜版、其图形修正方法、存储介质及器件制备方法是由吴维维;谢翔宇设计研发完成，并于2021-01-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩膜版、其图形修正方法、存储介质及器件制备方法在说明书摘要公布了：本公开提供一种掩膜版、其图形修正方法、存储介质及器件制备方法，该掩膜版包括至少一个沿预设方向的倾斜阶梯状图案；其中，所述倾斜阶梯状图案包括分别位于所述倾斜阶梯状图案沿所述预设方向的两侧的第一阶梯状轮廓和第二阶梯状轮廓；所述第一阶梯状轮廓包括多个第一直角拐点，所述第二阶梯状轮廓包括多个第二直角拐点；所述倾斜阶梯状图案中，所述第一直角拐点和所述第二直角拐点交错设置。这种掩膜版的图案线宽易于控制，不仅可以提高光学邻近修正的一致性，而且可提高掩膜工艺的均一性和芯片图案的均一性。
本发明授权掩膜版、其图形修正方法、存储介质及器件制备方法在权利要求书中公布了：1.一种掩膜版，其特征在于，包括至少一个沿第一预设方向的倾斜阶梯状图案；其中，所述倾斜阶梯状图案包括分别位于所述倾斜阶梯状图案沿所述第一预设方向的两侧的第一阶梯状轮廓和第二阶梯状轮廓；所述第一阶梯状轮廓包括多个第一直角拐点，所述第二阶梯状轮廓包括多个第二直角拐点；所述倾斜阶梯状图案中，所述第一直角拐点和所述第二直角拐点在垂直方向上交错设置；所述倾斜阶梯状图案中，任意两个偶数位或任意两个奇数位的所述第一直角拐点之间的连线的延伸方向与所述第一预设方向相同；所述倾斜阶梯状图案中，任意两个偶数位或任意两个奇数位的所述第二直角拐点之间的连线的延伸方向与所述第一预设方向相同；所述掩膜版中，所述倾斜阶梯状图案的数量为多个，且各个所述倾斜阶梯状图案彼此间隔且平行；相邻两个所述倾斜阶梯状图案的所述第一阶梯状轮廓交错设置。
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