恭喜泽瓦薄膜技术股份有限公司乔治·西格尔获国家专利权
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龙图腾网恭喜泽瓦薄膜技术股份有限公司申请的专利用于涂覆基底的装置、方法和系统以及超导的带状导体获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112442664B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010878315.1,技术领域涉及:C23C14/26;该发明授权用于涂覆基底的装置、方法和系统以及超导的带状导体是由乔治·西格尔设计研发完成,并于2020-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于涂覆基底的装置、方法和系统以及超导的带状导体在说明书摘要公布了:本发明涉及用于涂覆基底的装置、方法和系统以及超导的带状导体。该方法包括步骤:产生在气相中的金属材料,将气态的金属材料导入到扩张空间中,其中,扩张空间设置成使气态的金属材料扩张并且指向基底,并且将金属材料沉积在基底的表面的至少一部分上。经涂覆的超导的带状导体,包括:至少一个超导层,至少一个金属涂层,金属涂层沉积在带状导体上,其中,金属涂层的厚度为至少1μm并且在经涂覆的带状导体的宽度上的变化不大于10%、优选不大于5%。
本发明授权用于涂覆基底的装置、方法和系统以及超导的带状导体在权利要求书中公布了:1.用于在真空环境(1)中以金属涂层涂覆基底(4)的方法,其中,在所述真空环境(1)中存在最高1×10-1帕斯卡的环境气体压强,所述方法包括:a.在气体源(2)中以无飞溅的方式产生在气相中的金属材料(9),其中,所述金属材料(9)的蒸气压强在所述气体源(2)中至少为101帕斯卡;b.将气态的金属材料(9)导入到扩张空间(3)中;c.其中,所述扩张空间(3)具有拉瓦尔喷嘴的扩张部的形状并且设置成使所述气态的金属材料(9)扩张并且指向所述基底(4);并且d.将所述金属材料(9)沉积在所述基底(4)的表面的至少一部分上,其中,所述扩张空间(3)直接布置成靠近所述气体源(2),并且所述扩张空间(3)的周侧表面涂覆有防附着涂层。
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