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龙图腾网恭喜朗姆研究公司申请的专利在图案化结构上的定向沉积获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114999910B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210384497.6，技术领域涉及：H01L21/308；该发明授权在图案化结构上的定向沉积是由亚历山大·卡班斯凯;萨曼莎·坦;杰弗里·马克斯;潘阳设计研发完成，并于2016-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本在图案化结构上的定向沉积在说明书摘要公布了：本发明涉及在图案化结构上的定向沉积。本发明提供了通过在图案化结构上执行高度非共形定向沉积来促进图案化的方法和相关装置。所述方法包括在图案化结构例如硬掩模上沉积膜。沉积可以是衬底选择性的，使得膜相对于下伏的待蚀刻的材料具有高的蚀刻选择性，并且是图案选择性的，使得膜定向沉积以复制图案化结构的图案。在一些实施方式中，在与执行后续蚀刻的室相同的室中执行沉积。在一些实施方式中，沉积可在通过真空传送室连接到蚀刻室的单独室例如，PECVD沉积室中执行。沉积可在蚀刻工艺期间之前或在蚀刻工艺期间的选定的间隔期间执行。在一些实施方式中，沉积涉及沉积工艺和处理工艺的多个循环。

本发明授权在图案化结构上的定向沉积在权利要求书中公布了：1.一种用于在图案化结构上定向沉积的装置，包括：处理室，其中具有衬底支撑件；等离子体发生器，其与所述处理室集成或连接并配置为从一种或多种处理气体产生等离子体；包含机器可读指令的控制器，用于：在处理室中，在多循环沉积工艺中将材料沉积在图案化结构上，其中图案化结构包括具有特征顶部、特征底部和连接所述特征顶部和所述特征底部的特征侧壁的凸起特征，并且其中在每个循环中包含：i通过等离子体增强化学气相沉积PECVD工艺在所述图案化结构上非保形地沉积第一材料，使得特征顶部上的第一材料的厚度与特征底部上的第一材料的厚度之比为大于1；和ii在沉积第一材料之后，将第一材料暴露于能够蚀刻第一材料的等离子体，其中第一材料直接沉积在待蚀刻的第一层上，并且进行多循环沉积而在循环期间或循环之间不蚀刻该第一层。

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