恭喜中国计量大学刘天宇获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国计量大学申请的专利一种掺杂稀土离子的氟化物闪烁晶体及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119736089B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510244920.6，技术领域涉及：C09K11/85；该发明授权一种掺杂稀土离子的氟化物闪烁晶体及其制备方法是由刘天宇;雷磊;娄开成;周谡;邓德刚;徐时清设计研发完成，并于2025-03-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掺杂稀土离子的氟化物闪烁晶体及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及闪烁晶体技术领域，公开了一种掺杂稀土离子的氟化物闪烁晶体及其制备方法，闪烁晶体化学通式为：NaLuF4:GdKXz@NaSc0.2Lu0.8F4；核为NaLuF4:GdKXz，壳层为NaSc0.2Lu0.8F4；其中X为Tb3+，Sm3+，Pr3+或Dy3+离子中的一种。制备核纳米晶的过程中，加入过量的钾源，使得K+离子进入基质晶格的间隙中形成缺陷态能级，提高二次电子到稀土激活离子的能量传递效率。本发明能够提高离子激发态能级的能量传递效率，共同增强稀土激活离子的闪烁性能，提高发光效率，降低无辐射弛豫几率。
本发明授权一种掺杂稀土离子的氟化物闪烁晶体及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种掺杂稀土离子的氟化物闪烁晶体，其特征在于，化学组成通式为：NaLuF4:GdKXz@NaSc0.2Lu0.8F4；核为NaLuF4:GdKXz，壳层为NaSc0.2Lu0.8F4；其中X为Tb3+，Sm3+，Pr3+或Dy3+离子中的一种；z为X的摩尔含量，0.1≤z≤0.2。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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