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龙图腾网恭喜通达(石狮)科技有限公司申请的专利一种在亚光面上实现LOGO高亮效果的处理工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115740763B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211503665.5，技术领域涉及：B23K26/362；该发明授权一种在亚光面上实现LOGO高亮效果的处理工艺是由邓楚胜;王金帅;常保营设计研发完成，并于2022-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种在亚光面上实现LOGO高亮效果的处理工艺在说明书摘要公布了：本发明的一种在亚光面上实现LOGO高亮效果的处理工艺，通过以下步骤制作而成：步骤一、喷砂，步骤二、清洗，步骤三、将步骤二的清洗件放置无尘车间内进行三遍镭雕处理，每一遍镭雕处理均具有二次不同角度的镭雕，得到镭雕件，步骤四、将步骤三的镭雕件进行氧化处理，得到工件位于LOGO处的部位具有高亮效果。本发明的一种在亚光面上实现LOGO高亮效果的处理工艺，应用时利用三个镭雕参数下分别进行两次不同角度的镭雕可使LOGO部位呈现高亮效果，整个工艺只需进行四个工序，大大省略了处理工序和加工成本，显著提高了良率，经生产得到整个不良率在0.2％,且每一处理工序的操作又简易，易于操作工人操作。

本发明授权一种在亚光面上实现LOGO高亮效果的处理工艺在权利要求书中公布了：1.一种在亚光面上实现LOGO高亮效果的处理工艺，其特征在于：通过以下步骤制作而成：步骤一、喷砂，将工件位于LOGO处的部位进行喷砂处理，得到喷砂件；步骤二、将步骤一的喷砂件进行清洗，得到清洗件；步骤三、将步骤二的清洗件放置无尘车间内进行镭雕处理，得到镭雕件，镭雕时先将清洗件位于LOGO以外的部件在无尘车间内进行遮光处理，遮光后放置于镭雕机的镭雕工件台上，启动镭雕机，镭雕机进行三遍镭雕，第一遍镭雕时镭雕机在镭雕速度为950-1100mms，镭雕功率为18-25w，镭雕频率为50Hz,填充密度为0.018-0.02mm的参数下进行二次镭雕，第一次镭雕的镭雕角度为40-50度，第二次镭雕的镭雕角度为55-65度；第二遍镭雕时镭雕机在镭雕速度为850-920mms，镭雕功率为80-86w，镭雕频率为50Hz,填充密度为0.018-0.02mm的参数下进行二次镭雕，此第一次镭雕的镭雕角度为155-165度，此第二次镭雕的镭雕角度为65-75度；第三遍镭雕时镭雕机在镭雕速度为1150-1250mms，镭雕功率为90-95w，镭雕频率为50Hz,填充密度为0.025-0.035mm的参数下进行二次镭雕，此第一次镭雕的镭雕角度为150-165度，第二次镭雕的镭雕角度为65-75度；步骤四、将步骤三的镭雕件进行氧化处理，得到工件位于LOGO处的部位具有高亮效果。

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