恭喜东京毅力科创株式会社中泽贵士获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置和基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117678056B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280048780.X，技术领域涉及：H01L21/306；该发明授权基板处理装置和基板处理方法是由中泽贵士设计研发完成，并于2022-07-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置和基板处理方法在说明书摘要公布了：基板处理装置具备紫外线照射部、保持部以及液供给部。所述紫外线照射部对在表面形成有钨膜和氮化钛膜的基板的所述表面照射紫外线，来在所述基板的所述表面形成氧化膜。所述保持部保持所述基板。所述液供给部对由所述保持部保持的所述基板的所述表面供给药液，通过所述药液去除所述氧化膜，并通过所述药液选择性地相对于所述钨膜而蚀刻所述氮化钛膜。
本发明授权基板处理装置和基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，具备：紫外线照射部，其对在表面形成有钨膜和氮化钛膜的基板的所述表面照射紫外线，来在所述基板的所述表面形成氧化钨膜和氮氧化钛膜；保持部，其保持所述基板；以及液供给部，其对由所述保持部保持的在表面形成有所述氧化钨膜和所述氮氧化钛膜的所述基板的所述表面供给药液，通过所述药液去除所述氧化钨膜和所述氮氧化钛膜，并通过所述药液选择性地相对于所述钨膜而蚀刻所述氮化钛膜，其中，所述氮氧化钛膜相较于所述氧化钨膜更容易地被所述药液去除。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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