恭喜大金工业株式会社内藤真人获国家专利权
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龙图腾网恭喜大金工业株式会社申请的专利表面处理剂获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116724094B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202280010438.0,技术领域涉及:C09D183/00;该发明授权表面处理剂是由内藤真人;G·托尔蒂西耶;大向吉景;半田晋也;野村孝史设计研发完成,并于2022-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本表面处理剂在说明书摘要公布了:本发明涉及含有含氟代聚醚基硅烷化合物和酰胺化合物的表面处理剂,相对于表面处理剂整体,该酰胺化合物的含量含有0.5质量%以上。
本发明授权表面处理剂在权利要求书中公布了:1.一种表面处理剂,其特征在于:其为含有含氟代聚醚基硅烷化合物和酰胺化合物的表面处理剂,相对于表面处理剂整体,该酰胺化合物含有0.5质量%以上,所述含氟代聚醚基硅烷化合物与所述酰胺化合物的质量比为2∶1~5∶1,所述含氟代聚醚基硅烷化合物为以下式1或2所示的至少1种的含氟代聚醚基硅烷化合物,RF1α-XA-RSiβIRSiγ-XA-RF2-XA-RSiγ2式中:RF1在每次出现时分别独立地为Rf1-RF-Oq-;RF2为-Rf2p-RF-Oq-;Rf1在每次出现时分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-16烷基;Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-6亚烷基;RF在每次出现时分别独立地为以下式f1、f2、f3、f4或f5所示的2价的氟代聚醚基,-OC3F6d-OC2F4e-f1式f1中,d为1~200的整数,e为0或1,-OC4F8c-OC3F6d-OC2F4e-OCF2f-f2式f2中,c和d分别独立地为0~30的整数;e和f分别独立地为1~200的整数;c、d、e和f之和为10~200的整数;标注角标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的,-R6-R7g-f3式f3中,R6为OCF2或OC2F4;R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团,或者为从这些基团中选择的2或3个基团的组合;g为2~100的整数,-OC6F12a-OC5F10b-OC4F8c-OC3F6d-OC2F4e-OCF2f-f4式f4中,e为1以上200以下的整数,a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数,另外,标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的,-OC6F12a-OC5F10b-OC4F8c-OC3F6d-OC2F4e-OCF2f-f5式f5中,f为1以上200以下的整数,a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数,另外,标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的;p为0或1;q在每次出现时分别独立地为0或1;RSi在每次出现时分别独立地为以下式S1-a、S1-b、S2、S3、S4或S5所示的基团, -SiR11n1R123-n1S2SiRa1k1Rb111Rc1m1S3CRd1k2Re112Rf1m2S4-NRg1Rh1S5式中:R11在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团;R12在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团;n1在每个SiR11n1R123-n1单元中分别独立地为0~3的整数;X11在每次出现时分别独立地为单键或2价的有机基团;R13在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团;t1和t2在每次出现时分别独立地为1以上的整数;标注t1和t2并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的;t在每次出现时分别独立地为2以上的整数;Ra1在每次出现时分别独立地为-Z1-SiR21p1R22q1R23r1;Z1在每次出现时分别独立地为氧原子或2价的有机基团;R21在每次出现时分别独立地为-Z1′-SiR21′p1′R22′q1′R23′r1′;R22在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团;R23在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团;p1在每次出现时分别独立地为0~3的整数;q1在每次出现时分别独立地为0~3的整数;r1在每次出现时分别独立地为0~3的整数;p1、q1和r1的合计为3;Z1′在每次出现时分别独立地为氧原子或2价的有机基团;R21′在每次出现时分别独立地为-Z1″-SiR22″q1″R23″r1″;R22′在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团;R23′在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团;p1′在每次出现时分别独立地为0~3的整数;q1′在每次出现时分别独立地为0~3的整数;r1′在每次出现时分别独立地为0~3的整数;p1′、q1′和r1′的合计为3;Z1″在每次出现时分别独立地为氧原子或2价的有机基团;R22″在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团;R23″在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团;q1″在每次出现时分别独立地为0~3的整数;r1″在每次出现时分别独立地为0~3的整数;q1″和r1″的合计为3;Rb1在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团;Rc1在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团;k1在每次出现时分别独立地为0~3的整数;l1在每次出现时分别独立地为0~3的整数;m1在每次出现时分别独立地为0~3的整数;k1、l1和m1的合计为3;Rd1在每次出现时分别独立地为-Z2-CR31p2R32q2R33r2;Z2在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团;R31在每次出现时分别独立地为-Z2′-CR32′q2′R33′r2′;R32在每次出现时分别独立地为-Z3-SiR34n2R353-n2;R33在每次出现时分别独立地为氢原子、羟基或1价的有机基团;p2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;q2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;r2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;p2、q2和r2的合计为3;Z2′在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团;R32′在每次出现时分别独立地为-Z3-SiR34n2R353-n2;R33′在每次出现时分别独立地为氢原子、羟基或1价的有机基团;q2′在每次出现时分别独立地为0~3的整数;r2′在每次出现时分别独立地为0~3的整数;q2′和r2′的合计为3;Z3在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团;R34在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团;R35在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团;n2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;Re1在每次出现时分别独立地为-Z3-SiR34n2R353-n2;Rf1在每次出现时分别独立地为氢原子、羟基或1价的有机基团;k2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;l2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;m2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;k2、l2和m2的合计为3;Rg1和Rh1在每次出现时分别独立地为-Z4-SiR11n1R123-n1、-Z4-SiRa1k1Rb1l1Rc1m1或-Z4-CRd1k2Re1l2Rf1m2;Z4在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团;其中,式S1、S2、S3、S4和S5中,至少存在1个键合有羟基或水解性基团的Si原子;XA分别独立地为单键或2~10价的有机基团;α为1~9的整数;β为1~9的整数;γ分别独立地为1~9的整数,所述酰胺化合物为以下式A所示的酰胺化合物,NR61R62-COR63A式中:R61为氢原子或C1-10烷基;R62为C1-10烷基;R63为氢原子、C1-10烷基、NR652或-R66x-R67y-R68;或者R62和R63分别键合而形成-R62-R63-,该-R62-R63-为C3-4亚烷基或-C2-3亚烷基-NR65-;R65分别独立地为氢原子或C1-10烷基;R66在每次出现时分别独立地为C1-6亚烷基;R67为氧原子或CO;R68为C1-10烷基;x为1~6的整数;y为1~6的整数;在此,-R66x-R67y-R68中,R66和R67各自的存在顺序是任意的。
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