恭喜MI2工厂有限责任公司C·科萨托获国家专利权
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龙图腾网恭喜MI2工厂有限责任公司申请的专利用于将粒子注入衬底的设备和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113811975B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080034328.9，技术领域涉及：H01J37/05；该发明授权用于将粒子注入衬底的设备和方法是由C·科萨托;F·克里彭多夫设计研发完成，并于2020-05-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于将粒子注入衬底的设备和方法在说明书摘要公布了：用于将粒子注入衬底12的设备包括粒子源2和粒子加速器4，用于产生包括带正电离子的离子束10。设备还包括衬底支架30和能量过滤器20，其设置在粒子加速器4和衬底支架30之间。能量过滤器20是具有预定的结构轮廓的微结构化膜，用于设定在衬底12中由注入工艺产生的掺杂物深度分布和或缺陷深度分布。设备还包括用于离子束10的无源制动元件22，所述元件设置在所述粒子加速器4和衬底支架30之间并且与能量过滤器20间隔设置。
本发明授权用于将粒子注入衬底的设备和方法在权利要求书中公布了：1.一种用于将粒子注入衬底12的设备，包括：粒子源2和粒子加速器4，用于产生带正电离子的离子束10；衬底支架30；能量过滤器20，其设置在所述粒子加速器4和所述衬底支架30之间，其中所述能量过滤器20是具有预定的结构轮廓的微结构化膜，用于设定在所述衬底12中通过注入产生的掺杂物深度分布和或缺陷深度分布；以及用于所述离子束10的至少一个无源制动元件22，所述无源制动元件22设置在所述粒子加速器4和所述衬底支架30之间并且与所述能量过滤器20间隔设置；其中，所述粒子加速器4是高频线性加速器或回旋加速器；其中，所述粒子加速器4的配置仅能够为每种离子类型提供一个固定的每核子能量，或其中，所述粒子加速器4的配置仅能够提供在1MeV至50MeV的能量范围内的离子，其中所述粒子加速器4具有这样的配置，根据所述配置，只有少于十个可设定能量的离子束10是可能的。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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