恭喜朗姆研究公司普拉尼亚·南纳帕内尼获国家专利权
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龙图腾网恭喜朗姆研究公司申请的专利原子层沉积期间的快速冲洗清扫获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113728415B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080029930.3，技术领域涉及：H01L21/285；该发明授权原子层沉积期间的快速冲洗清扫是由普拉尼亚·南纳帕内尼;塞马·埃梅兹;诺维·特约克洛;邓若鹏;于天骅;巴晓兰;高举文;桑杰·戈皮纳特设计研发完成，并于2020-04-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本原子层沉积期间的快速冲洗清扫在说明书摘要公布了：本文提供用于在原子层沉积ALD工艺期间清扫处理室的方法和相关装置。所述方法涉及使清扫气体从一个或多个蓄气器中流出以从处理室中去除处理气体。在清扫气体流动之后，额外的反应物可被引入处理室以继续ALD循环。
本发明授权原子层沉积期间的快速冲洗清扫在权利要求书中公布了：1.一种快速冲洗清扫的方法，其包括：向室压强小于100托的室提供半导体衬底，其中所述半导体衬底包括部分制造的三维3-DNAND结构，该结构包括侧壁和在所述侧壁中的通向多个特征的多个开口，所述特征具有通过所述开口能流体进入的多个内部区域；通过多次ALD循环在所述半导体衬底上沉积材料，其中每个循环包括依次使以下物质流入所述室：还原剂；第一清扫气体；钨前体；和第二清扫气体；以及其中使所述第一清扫气体流动和使所述第二清扫气体流动的每一者都包括使清扫气体从具有第一增压压强的第一蓄气器流出并流入所述室，接着在使所述清扫气体从所述第一蓄气器流出的5秒内使清扫气体从具有第二增压压强的第二蓄气器流出并流入所述室，所述第一增压压强和所述第二增压压强介于400托和1000托之间。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人朗姆研究公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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