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龙图腾网恭喜中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利一种基于虚拟HiLo算法的宽场光学切片快速成像方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114004904B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111235257.1，技术领域涉及：G06T11/00；该发明授权一种基于虚拟HiLo算法的宽场光学切片快速成像方法是由刘军;胡渝曜;梁东;宣雅萍设计研发完成，并于2021-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于虚拟HiLo算法的宽场光学切片快速成像方法在说明书摘要公布了：本发明属于光学成像领域，更具体地，属于光学切片成像领域，提供了一种基于虚拟HiLo算法的宽场光学切片快速成像方法，其过程包括对原始图像进行边缘检测，再结合应用广泛的HiLo算法，以实现虚拟HiLo算法过程。本发明具有与常规光学切片成像技术相媲美的光学切片性能。本发明方法特点在于仅需一张宽场照明的图像即可重构光学切片图像，相较于常规光学切片方法，本发明方法能够有效提高成像速度，抑制运动伪像，简化成像的复杂度和降低成像装置成本。并且，本发明方法能够轻易地应用到具有离焦模糊噪声抑制相关的需求的成像领域。

本发明授权一种基于虚拟HiLo算法的宽场光学切片快速成像方法在权利要求书中公布了：1.一种基于虚拟HiLo算法的宽场光学切片快速成像方法，其特征在于，包括以下步骤；步骤一、获取一张宽场均匀照明图像Iux,y，并进行边缘检测以获得边缘检测图像ILx,y；步骤二、将边缘检测图像ILx,y与HiLo算法所需要的结构光照明图像Isx,y相互替换，公式如下：Isx,y≈ILx,y1步骤三，求重构光学切片图像所需的高频成分Hix,y，公式如下：Hix,y＝F-1{HPfc{F[Iux,y]}}2式中，F和F-1分别为傅里叶变换和傅里叶逆变换操作，HPfc为高斯高通滤波操作；步骤四，求重构光学切片图像所需的低频成分Lox,y，公式如下：Lox,y＝F-1{LPfc{F[Wx,y×Iux,y]}}3式中，Wx,y为局部对比度图像；LPfc为高斯高通滤波操作，其中fc表示高通滤波器的截止频率，×为乘法操作；步骤五，重构光学切片图像IHiLo，公式如下：IHilox,y＝Hix,y+ηLox,y4式中，η为高频成分Hix,y与低频成分Lox,y的权重比例，范围在0～1；所述的步骤四中计算局部对比度图像Wx,y，具体步骤如下：步骤4.1，计算宽场均匀照明图像Iux,y和边缘检测图像ILx,y的差值图像Idbpx,y，公式如下：Idbpx,y＝F-1{{F[Iux,y-ISx,y]}×BFPfx,fy}5式中，fx,fy为频率域坐标，BFPfx,fy为高斯高通滤波器，其公式如下： 式中，σ为低通滤波器的标准偏差；步骤4.2，计算局部对比度图像Wx,y，公式如下： 式中，Λ是方形采样窗口的长度，取决于滤波器的截止频率kc，kc＝12Λ；σΛx,y和μΛx,y分别是差分图像Idbpx,y的标准偏差和平均值，公式分别如下： 式中，其中*代表相关操作，NΛx,y为用于计算Wx,y的核，Nk是窗口矩阵NΛx,y的和。

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