恭喜哈尔滨工业大学高岗获国家专利权
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龙图腾网恭喜哈尔滨工业大学申请的专利一种中远红外宽波段高透过红外窗口及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115755258B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211434779.9，技术领域涉及：G02B5/20；该发明授权一种中远红外宽波段高透过红外窗口及其制备方法是由高岗;章骜阳;曾诗琪;朱嘉琦;李坤;夏菲;徐梁格;杨磊;韩杰才设计研发完成，并于2022-11-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种中远红外宽波段高透过红外窗口及其制备方法在说明书摘要公布了：一种中远红外宽波段高透过红外窗口及其制备方法，涉及一种红外窗口及其制备方法。本发明是要解决现有的多光谱ZnS红外窗口平均透过率只有60％左右，无法满足应用需求的技术问题。本发明利用高低折射率搭配的原则，选用高折射率ZnS和低折射率YF3为基础的膜系材料，考虑到红外窗口需要具备抗极端环境的高机械性能，在膜系最外层采用高硬膜Y2O3为保护层。本发明的中远红外宽波段高透过红外窗口兼顾了中远红外波段高透过，在3μm～12μm范围内的透过率高于85％，具有良好的中远红外光学性能。该红外窗口的实现可为飞行器宽波段工作提供技术保障，极大程度地提升飞行器的服役性能。
本发明授权一种中远红外宽波段高透过红外窗口及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种中远红外宽波段高透过红外窗口，其特征在于中远红外宽波段高透过红外窗口的结构为：ZnS衬底位于中间，在ZnS衬底的两侧设置多层薄膜；中远红外宽波段高透过红外窗口内侧膜系结构为YF3薄膜和ZnS薄膜交替膜堆，YF3薄膜和ZnS薄膜的层数相等，靠近ZnS衬底的一侧为YF3薄膜，YF3薄膜和ZnS薄膜的总层数为N层，N为大于等于8的偶数；中远红外宽波段高透过红外窗口外侧为YF3薄膜和ZnS薄膜交替膜堆，YF3薄膜和ZnS薄膜的层数相等，靠近ZnS衬底的一侧为YF3薄膜，YF3薄膜和ZnS薄膜的总层数为M层，N减去M等于2；在外侧的ZnS薄膜上再设置一层YF3薄膜和一层Y2O3薄膜，Y2O3薄膜在最外侧。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人哈尔滨工业大学，其通讯地址为：150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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