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龙图腾网恭喜福建兆元光电有限公司申请的专利一种电极金属层制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115274961B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211063491.5，技术领域涉及：H10H20/83；该发明授权一种电极金属层制作方法是由李慧敏;钟伟华;彭足超;李景浩;鲁日彬;蔡武设计研发完成，并于2022-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种电极金属层制作方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种电极金属层制作方法，在衬底上依次生长缓冲层和外延层，对外延层进行刻蚀后在外延层的P型氮化镓上生长氧化铟锡层；在氧化铟锡层和外延层的N型氮化镓上均使用曝光量90‑150mj、显影温度110‑114℃，对光刻胶进行曝光、显影，并在显影后的位置蒸镀得到电极金属层。在现有技术中通常使用曝光量280mj和显影温度106℃进行光刻胶的曝光显影，且减少曝光量会使得尺寸变大，而本发明中在降低曝光量的同时增加显影温度，此时增加显影温度可使光刻后尺寸变小，选取降低曝光量进行曝光能够节省时间，由此，在降低曝光量的同时增加显影温度能够有效减少电极金属层的面积，减少氧化铟锡层的被阻挡面积，从而提升发光亮度。

本发明授权一种电极金属层制作方法在权利要求书中公布了：1.一种电极金属层制作方法，其特征在于，包括步骤：在衬底上依次生长缓冲层和外延层，对所述外延层进行刻蚀，并在外延层的P型氮化镓上生长氧化铟锡层；在所述氧化铟锡层和外延层的N型氮化镓上，使用曝光量90-150mj、显影温度110-114℃，对光刻胶进行曝光、显影，并在显影后的位置蒸镀电极金属层：在所述氧化铟锡层上涂覆负性光刻胶，使用曝光量90-150mj、显影温度110-114℃对负性光刻胶进行曝光和黄光显影，得到显影区域，所述显影区域的宽度为3.9-4.1μm，结合负性光刻胶上宽下窄的形状特性，并在所述负性光刻胶的显影区域上蒸镀得到P电极和线宽为4.9-5.1μm的电极扩展条；在外延层的N型氮化镓上，使用曝光量90-150mj、显影温度110-114℃，对光刻胶进行曝光、显影，并蒸镀N电极。

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