恭喜上海华力集成电路制造有限公司赵韦韦获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海华力集成电路制造有限公司申请的专利Die的缺陷扫描检测分析方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114994073B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210575765.2，技术领域涉及：G01N21/95；该发明授权Die的缺陷扫描检测分析方法是由赵韦韦设计研发完成，并于2022-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本Die的缺陷扫描检测分析方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种Die的缺陷扫描检测分析方法，提供扫描机台，在扫描机台导入待检测晶圆的版图文件；将待检测晶圆中多个die整合为多个第一测试区，利用扫描机台对第一测试区进行缺陷检测并得到其缺陷分布图像；根据缺陷分布图像判断缺陷类型；若缺陷类型不为线分布或聚集点分布，则输出扫描结果；若没有发生缺陷扫描偏移，则输出扫描结果；若发生缺陷扫描偏移，则将包括线分布或聚集点分布缺陷区域对应的die整合为第二测试区，对扫描机台进行参数调整以去除造成缺陷扫描偏移的信号，之后输出扫描结果。本发明减少了在对缺陷图像筛选时丢失真实缺陷的几率，也不易造成造成缺出来的缺陷图上的信号比较多的问题。
本发明授权Die的缺陷扫描检测分析方法在权利要求书中公布了：1.一种Die的缺陷扫描检测分析方法，其特征在于，至少包括：步骤一、提供扫描机台，在所述扫描机台导入待检测晶圆的版图文件；步骤二、将所述待检测晶圆中多个die整合为多个第一测试区，利用所述扫描机台对所述第一测试区进行缺陷检测并得到其缺陷分布图像；步骤三、根据所述缺陷分布图像判断缺陷类型；若所述缺陷类型不为线分布或聚集点分布，则输出扫描结果；若所述缺陷类型为线分布或聚集点分布，则判断为线分布或聚集点分布的缺陷是否为所述扫描机台扫描造成的缺陷扫描偏移：若没有发生缺陷扫描偏移，则输出扫描结果；若发生缺陷扫描偏移，则将包括线分布或聚集点分布缺陷区域对应的所述die整合为第二测试区，对所述扫描机台进行参数调整以去除造成缺陷扫描偏移的信号，之后输出扫描结果。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海华力集成电路制造有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区良腾路6号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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