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龙图腾网恭喜上海华力集成电路制造有限公司申请的专利一种区分化学机械抛光图层故障缺陷源的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114121701B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111327433.4，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权一种区分化学机械抛光图层故障缺陷源的方法是由曹海瑞设计研发完成，并于2021-11-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种区分化学机械抛光图层故障缺陷源的方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种区分化学机械抛光图层故障缺陷源的方法，包括获取产品芯片的设计信息，根据设计信息得到第一特征图；获取晶圆的图形，以与第一特征图相同的坐标原点赋予晶圆的图形，从而得到第二特征图；将第二特征图导入现有技术中的ADC服务器的数据库，得到缺陷坐标，其中数据库根据不同的工艺机台所产生的缺陷类型进行缺陷编码分类；ADC服务器在分类时，利用缺陷坐标与第一特征图的坐标进行匹配，从而对比得到缺陷坐标处于第一特征图上的位置；确定缺陷坐标对应的工艺机台，能够由循环自动精确分类，排除人为干预，帮助工程师快速准确的锁定加工机台，防止更多的影响批次产生，提高产品良率。

本发明授权一种区分化学机械抛光图层故障缺陷源的方法在权利要求书中公布了：1.一种区分化学机械抛光图层故障缺陷源的方法，其特征在于，至少包括：步骤一、获取产品芯片的设计信息，芯片的设计信息包括芯片的设计版图，根据所述设计版图中的各个部分通过CAD绘制得到第一特征图，其中所述第一特征图的不同位置分别对应不同的工艺机台；步骤二、获取晶圆的图形，其中所述晶圆的图形与所述第一特征图的大小比例相同，以与所述第一特征图相同的坐标原点赋予所述晶圆的图形，从而得到第二特征图；步骤三、将所述第二特征图导入ADC服务器的数据库，使得所述ADC服务器得到所述第二特征图中的缺陷坐标，其中所述数据库根据不同的所述工艺机台所产生的缺陷类型进行缺陷编码分类；步骤四、所述ADC服务器对所述缺陷坐标进行分类，利用所述缺陷坐标与所述第一特征图的坐标进行匹配，从而对比得到所述缺陷坐标处于所述第一特征图上的位置；步骤五、根据步骤三中的所述缺陷编码确定所述缺陷坐标对应的所述工艺机台。

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