买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜荷兰应用自然科学研究组织TNO申请的专利功能材料至靶材表面上的可控沉积获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115398034B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180025731.X，技术领域涉及：C23C26/00；该发明授权功能材料至靶材表面上的可控沉积是由罗布·雅各布·亨德里克斯设计研发完成，并于2021-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本功能材料至靶材表面上的可控沉积在说明书摘要公布了：本文提供了板1，其包括将要使用具有波长λR3的单色光子辐射R3沉积到靶材表面51上的功能材料2。所述板包括基底10，所述基底10具有被引导朝向靶材表面的第一表面11和接收单色光子辐射的第二表面12。第一表面11被图案化为具有一个或多个凹陷区域111，所述凹陷区域111具有介电涂层4并且填充有所述功能材料。介电涂层4包括一系列折射率交替的介电涂层子层41,42,43。与对于以45度角入射到介电涂层4的所述单色辐射R3的反射率相比，所述介电涂层4对于垂直于介电涂层4入射的所述单色辐射R3具有相对高的反射率。从而减轻了剪切力，而不需要高的对准精度。本申请还提供了包括该板的沉积装置和涉及该板的方法。

本发明授权功能材料至靶材表面上的可控沉积在权利要求书中公布了：1.使用具有波长λR3的单色辐射R3将功能材料2可控沉积到靶材表面51上的方法，所述方法包括：-提供具有基底10的透明载板1，所述基底10具有相互相对的第一表面11和第二表面12，其中向所述第一表面11提供一个或多个凹陷区域111；-在所述第一表面11上沉积介电涂层4，所述介电涂层4包括一系列折射率交替的介电涂层子层41,42,43，与对于以45度角入射到所述介电涂层4的所述单色辐射R3的反射率相比，所述介电涂层4对于垂直于所述介电涂层4入射的所述单色辐射R3具有相对高的反射率；-用所述功能材料2填充所述一个或多个凹陷区域111；-将所述透明载板1定位在单色辐射源3和所述靶材表面51之间，其中所述第一表面11面对所述靶材表面51；-将所述单色辐射R3引导朝向所述透明载板1的所述第二表面12，所述单色辐射R3具有引起功能材料2从所述一个或多个凹陷区域111转移到所述靶材表面51的强度和持续时间。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人荷兰应用自然科学研究组织TNO，其通讯地址为：荷兰海牙；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。