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龙图腾网恭喜华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利版图的蚀刻补偿方法、装置、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119275123B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411786012.1，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权版图的蚀刻补偿方法、装置、电子设备及存储介质是由熊万能;杨晓方;张亚设计研发完成，并于2024-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本版图的蚀刻补偿方法、装置、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了：本申请实施例公开了一种版图的蚀刻补偿方法、装置、电子设备及存储介质。该方案可以获取蚀刻后的芯片版图，针对芯片版图中待补偿的目标位置获取与目标位置关联的多个特征信息以及特征参数，依次从多个特征信息中选取两个特征信息，建立两个特征信息与第一补偿值之间的二维表，以得到多个二维表，根据特征参数从多个二维表中依次确定每个二维表对应的第二补偿值，根据多个第二补偿值和多个特征信息对目标补偿值的影响因子计算目标补偿值，根据目标补偿值对目标位置进行补偿。本申请实施例从多个特征信息中获取每两个特征信息对应的补偿值，再结合多个特征信息对目标补偿值的影响因子计算目标补偿值，提高了蚀刻偏差补偿的准确性。

本发明授权版图的蚀刻补偿方法、装置、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种版图的蚀刻补偿方法，其特征在于，包括：获取蚀刻后的芯片版图，针对所述芯片版图中待补偿的目标位置获取与所述目标位置关联的多个特征信息以及特征参数；依次从所述多个特征信息中选取两个特征信息，建立所述两个特征信息与第一补偿值之间的二维表，以得到多个二维表，其中，建立所述两个特征信息与第一补偿值之间的二维表，包括在不同的测试芯片版图中获取所述两个特征信息的多个第一测量值，以及对所述测试芯片进行蚀刻后的多个第二测量值，根据所述第一测量值和所述第二测量值计算多个偏差值，并将所述多个偏差值作为所述两个特征信息对应的多个第一补偿值，根据所述两个特征信息对应的多个第一补偿值建立二维表；根据所述特征参数从所述多个二维表中依次确定每个二维表对应的第二补偿值，包括：在每个所述二维表中，确定第一特征参数对应的第一区间以及第二特征参数对应的第二区间，根据所述第一区间和所述第二区间确定所述二维表对应的第二补偿值；根据多个第二补偿值和多个特征信息对目标补偿值的影响因子计算目标补偿值，根据所述目标补偿值对所述目标位置进行补偿。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华芯程(杭州)科技有限公司，其通讯地址为：310000 浙江省杭州市余杭区良渚街道网周路99号1幢22层2208室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。