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龙图腾网恭喜西安蓝桥新能源科技有限公司申请的专利一种用于硅片碱刻蚀抛光的添加剂、反应液及方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119039991B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411523343.6，技术领域涉及：C09K13/02；该发明授权一种用于硅片碱刻蚀抛光的添加剂、反应液及方法与应用是由张鹏伟;章浩然;唐丹江;曹丽慧;赵雅倩设计研发完成，并于2024-10-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于硅片碱刻蚀抛光的添加剂、反应液及方法与应用在说明书摘要公布了：本发明属于硅片加工技术领域，涉及一种用于硅片碱刻蚀抛光的添加剂、反应液及方法与应用。本发明提供了一种用于硅片碱刻蚀抛光的添加剂，以质量百分比计，所述添加剂由：消泡剂0.3~1.0%，修饰剂0.1~1.0%，促进剂0.1~1.0%，以及余量的去离子水构成；所述消泡剂选自非离子型表面活性剂中的至少一种，所述修饰剂选自含苯基的氧化磷类化合物、含苯基的酯类化合物中的至少一种，所述促进剂选自具有氧化性的强碱弱酸盐、具有氧化性的硼酸盐中的至少一种。本发明提供的添加剂用于硅片碱刻蚀抛光时，能使得硅片背面金字塔腐蚀平整和塔基圆化，具备优异的钝化性能与较低的接触电阻，通过提高短路电流最终达到提高电池效率的目的。

本发明授权一种用于硅片碱刻蚀抛光的添加剂、反应液及方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种用于硅片碱刻蚀抛光的添加剂，其特征在于，以质量百分比计，所述添加剂由：消泡剂0.3~1.0%，修饰剂0.1~1.0%，促进剂0.1~1.0%，以及余量的去离子水构成；所述消泡剂选自非离子型表面活性剂中的至少一种；所述修饰剂选自含苯基的氧化磷类化合物、含苯基的酯类化合物中的至少一种；所述促进剂选自具有氧化性的强碱弱酸盐、具有氧化性的硼酸盐中的至少一种；所述非离子型表面活性剂选自聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚、聚二甲基硅氧烷、聚氧丙烯甘油醚；所述含苯基的氧化磷类化合物为三苯基氧磷，所述含苯基的酯类化合物为邻甲基苯甲酸乙酯、邻苯二甲酸单苄酯；所述具有氧化性的强碱弱酸盐为次氯酸钠、过碳酸钠，所述具有氧化性的硼酸盐为过硼酸钾；所述去离子水电阻率大于18MΩ；所述添加剂提高硅片的反射率。

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