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龙图腾网恭喜维达力实业(深圳)有限公司申请的专利减反射膜、制备方法、减反射光学制品及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111999785B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010698729.6，技术领域涉及：G02B1/115；该发明授权减反射膜、制备方法、减反射光学制品及应用是由晏柱;薛涛;王强设计研发完成，并于2020-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本减反射膜、制备方法、减反射光学制品及应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种减反射膜、制备方法、减反射光学制品及应用。该减反射膜包括交替层叠设置的低折射率膜层和高折射率膜层，低折射率膜层的折射率低于所述高折射率膜层；减反射膜的底部膜层和顶部膜层均为低折射率膜层；设置于顶部膜层下的高折射率膜层是氮化硅膜层，厚度为500nm～2000nm；减反射膜具有11GPa以上的纳米硬度，在400nm～700nm波段范围内的透光率在94％以上。上述减反射光学膜将位于顶部膜层下的高折射率膜层设计为氮化硅层，并大大增加其厚度，能够在保证透光率的前提下有效提高减反射光学制品的纳米硬度。

本发明授权减反射膜、制备方法、减反射光学制品及应用在权利要求书中公布了：1.一种减反射光学制品，其特征在于，包括基材和设置于所述基材至少一侧表面上的减反射膜，所述减反射膜包括交替层叠设置的低折射率膜层和高折射率膜层，所述低折射率膜层的折射率低于所述高折射率膜层；所述减反射膜的底部膜层和顶部膜层均为所述低折射率膜层；设置于所述顶部膜层下的高折射率膜层是氮化硅膜层，厚度为500nm~2000nm；所述减反射膜具有11GPa以上的纳米硬度，所述减反射光学制品在400nm~700nm波段范围内的平均透光率在94%以上；所述减反射膜包括厚度为10nm~90nm的第一低折射率膜层、设置于所述第一低折射率膜层上的厚度为5nm~30nm的第一高折射率膜层、设置于所述第一高折射率膜层上的厚度为20nm~70nm的第二低折射率膜层、设置于所述第二低折射率膜层上的厚度为15nm~150nm的第二高折射率膜层、设置于所述第二高折射率膜层上的厚度为10nm~40nm的第三低折射率膜层、设置于所述第三低折射率膜层上的厚度为500nm~2000nm的第三高折射率膜层以及设置于所述第三高折射率膜层上的厚度为70nm~100nm的第四低折射率膜层；所述第一低折射率膜层为所述底部膜层，所述第四低折射率膜层为所述顶部膜层。

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