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龙图腾网恭喜中国人民解放军国防科技大学申请的专利一种自动化CVD装置连续制备二维材料的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119876906B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510369397.X，技术领域涉及：C23C16/44；该发明授权一种自动化CVD装置连续制备二维材料的方法是由房素素;姚金龙;王丹阳;王珊珊设计研发完成，并于2025-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种自动化CVD装置连续制备二维材料的方法在说明书摘要公布了：本发明属于二维材料制备领域，具体涉及到一种自动化CVD装置连续制备二维材料的方法，自动化CVD连续制备二维材料装置包括反应炉、瓷舟组件、直线移动机构、物料存放装置和上下料机构；本发明所提供的自动化CVD装置连续制备二维材料的方法，彻底摒弃传统手工双边上样、螺栓固定的繁琐流程，创新性地采用单边自动化进样，通过设计多种零件的协同配合，成功实现瓷舟组件进样后即刻密封的效果，简化流程且大幅提高工作效率。此外，通过设计上下料机构，有效克服因上料盘表面不平整因素导致的上样失败问题，实现上下料自适应纠偏，进而实现整个制备流程的自动化进行，最终实现24小时的连续自动化实验。

本发明授权一种自动化CVD装置连续制备二维材料的方法在权利要求书中公布了：1.一种自动化CVD装置连续制备二维材料的方法，其特征是，使用自动化CVD装置连续制备二维材料，所述自动化CVD装置包括反应炉（1）、瓷舟组件（2）、直线移动机构（3）、物料存放装置（4）和上下料机构（5）；所述反应炉（1）包括用于进行气相沉积的炉体（11），所述炉体（11）的一侧设置有物料进出口（133）；所述瓷舟组件（2）包括依次设置的瓷舟（21）和瓷舟杆（22），所述瓷舟杆（22）设置在所述直线移动机构（3）输出端，所述直线移动机构（3）用于驱动所述瓷舟组件（2）通过所述物料进出口（133）进入炉体（11）；在所述瓷舟组件（2）进入炉体（11）时，所述瓷舟杆（22）与所述物料进出口（133）通过瓷舟杆（22）上的密封圈（221）配合完成密封；所述物料存放装置（4）存放用于气相沉积的衬底和用于存放前驱体的坩埚；所述上下料机构（5）用于将所述物料存放装置（4）上的衬底和坩埚转移至所述瓷舟（21）上进行气相沉积，所述上下料机构（5）还用于将所述瓷舟（21）上已经完成气相沉积的衬底和坩埚转移至下一工位；所述自动化CVD装置连续制备二维材料的方法为使用所述自动化CVD装置进行连续的自动化实验；所述反应炉（1）包括炉体（11）和放置在炉体（11）内的炉管（12）；所述炉体（11）一端设置有连接法兰（13），所述连接法兰（13）上设置有进出气腔（131），所述进出气腔（131）的一端设置有连通所述炉体（11）内的进出气孔Ⅰ（132），另一端设置有物料进出口（133），所述进出气腔（131）上还设置有连通炉体（11）外的进出气孔Ⅱ（134）；所述炉管（12）内部中空两端开口，其中一端开口连通所述炉体（11）外部用于出进气，另一端开口抵接在所述进出气孔Ⅰ（132）背离所述进出气腔（131）一端；所述瓷舟组件（2）的一端可依次通过所述物料进出口（133）、进出气孔Ⅰ（132）伸入所述炉管（12）内，所述瓷舟杆（22）外壁与所述进出气孔Ⅰ（132）之间具有进出气间隔（135），所述瓷舟杆（22）与所述物料进出口（133）通过瓷舟杆（22）上的密封圈（221）配合完成密封；所述进出气腔（131）包括侧围Ⅰ（1311）、设置在侧围Ⅰ（1311）一端的固定侧壁Ⅰ（1312）和滑动设置在侧围Ⅰ（1311）内的滑动侧壁Ⅰ（1313）；所述进出气孔Ⅰ（132）设置在所述滑动侧壁Ⅰ（1313）上；所述物料进出口（133）设置在所述固定侧壁Ⅰ（1312）上；所述进出气孔Ⅱ（134）设置在侧围Ⅰ（1311）或固定侧壁Ⅰ（1312）上；所述滑动侧壁Ⅰ（1313）和固定侧壁Ⅰ（1312）之间还设置有弹簧Ⅰ（1314），所述弹簧Ⅰ（1314）推动所述滑动侧壁Ⅰ（1313）与所述炉管（12）开口抵接。

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