无锡影速半导体科技有限公司刘学获国家专利权
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龙图腾网获悉无锡影速半导体科技有限公司申请的专利曝光设备的成像系统、成像系统的调整方法及装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119575768B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411948405.8,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权曝光设备的成像系统、成像系统的调整方法及装置是由刘学设计研发完成,并于2024-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本曝光设备的成像系统、成像系统的调整方法及装置在说明书摘要公布了:本申请公开了一种曝光设备的成像系统、成像系统的调整方法及装置,涉及曝光设备技术领域,成像系统包括:至少一条成像支路,成像支路包括:第一反射镜、第二反射镜和楔形镜;第一反射镜基于预设的第一倾斜角度安装在成像组件的下方,用于将光线由竖直方向转变为横向;第二反射镜基于预设的第二倾斜角度安装在第一反射镜的反射侧,用于将通过第一反射镜反射的光线转变为倾斜方向;楔形镜基于预设的楔形镜厚度安装在第二反射镜的下方,用于将通过第二反射镜反射的光线投射在焦面上。本申请用以解决现有技术中的曝光设备曝光时间长且曝光区域存在拼接印的问题,实现曝光设备的一次曝光以及解决曝光区域存在的拼接印问题。
本发明授权曝光设备的成像系统、成像系统的调整方法及装置在权利要求书中公布了:1.一种曝光设备的成像系统,所述曝光设备包括:至少两个曝光组件,所述曝光组件包括:一个数字微镜器件和一个成像组件,所述曝光组件错排分布,其特征在于,所述成像系统包括:至少一条成像支路,所述成像支路包括:第一反射镜、第二反射镜和楔形镜; 所述第一反射镜基于预设的第一倾斜角度安装在所述成像组件的下方,用于将通过所述成像组件的光线由竖直方向转变为横向,并使转变后的光线投射至所述第二反射镜; 所述第二反射镜基于预设的第二倾斜角度安装在所述第一反射镜的反射侧,用于将通过所述第一反射镜反射的光线转变为倾斜方向,并使转变后的光线投射至所述楔形镜; 所述楔形镜基于预设的楔形镜厚度安装在所述第二反射镜的下方,用于将通过所述第二反射镜反射的光线投射在焦面上; 其中,所述第一倾斜角度、所述第二倾斜角度、所述楔形镜厚度、所述第一反射镜的安装位置、所述第二反射镜的安装位置以及所述楔形镜的安装位置基于调整目标预先调整所述成像系统得到; 其中,所述调整目标包括:错排分布的曝光组件的光斑中心在成像平面内对应一条水平方向的中心轴线,且,在所述中心轴线上的任意两个相邻的光斑图像之间的拼接差值属于预设差值范围。
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