恭喜东京毅力科创株式会社天野嘉文获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置和基片处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111952215B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010371679.0，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基片处理装置和基片处理方法是由天野嘉文;相浦一博设计研发完成，并于2020-05-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置和基片处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供基片处理装置和基片处理方法。本发明的一方式的基片处理装置包括保持部、喷嘴臂和对位机构。保持部保持基片。喷嘴臂具有对基片的周缘部供给处理液的喷嘴。对位机构设置于喷嘴臂，用于使基片的位置与保持部中的所设定的位置对准。本发明能够高精度地蚀刻基片的周缘部。
本发明授权基片处理装置和基片处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括： 能够保持基片的保持部； 喷嘴臂，其具有对所述基片的周缘部供给处理液的喷嘴；和 对位机构，其设置于所述喷嘴臂，用于使所述基片的位置与所述保持部中的所设定的位置对准， 所述喷嘴和所述对位机构设置在相同的所述喷嘴臂， 所述喷嘴以从位于所述对位机构的侧部的液供给部延伸到所述对位机构与所述基片之间的位置的方式配置。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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