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申请/专利权人：亚申科技研发中心（上海）有限公司;美国亚申公司
申请日：2007-12-29
公开（公告）日：2008-10-01
公开（公告）号：CN101274233A
专利技术分类：
专利摘要：一种物质处理装置以及一种物质处理方法，其中所述物质处理装置包括第一元件以及可相对旋转地至少部分收容于该第一元件内的第二元件，第一元件和第二元件之间形成一物质处理通道，第一元件与第二元件相对旋转时可使物质处理通道内的被处理物质形成库特流。该物质处理装置还包括一密封腔，位于所述物质处理通道的一端，以密封所述物质通道。所述物质处理装置还包括一第一端口，用于将一第一流体引入所述密封腔，以及一第二端口，用于输出所述密封腔内的物质。所述物质处理装置和物质处理方法具有良好的密封效果，并有效防止被处理物质泄漏至外部环境。
专利权项：1.一种物质处理装置，包括：第一元件；第二元件，可相对旋转地至少部分收容于所述第一元件内；物质处理通道，形成于所述第一元件和第二元件之间，当所述第一元件与第二元件相对旋转时可使被处理物质在所述物质处理通道内形成库特流；其特征在于，该物质处理装置还包括一密封腔，位于所述物质处理通道的一侧，以密封所述物质通道；所述物质处理装置还包括一第一端口，用于将一第一流体引入所述密封腔；以及一第二端口，用于输出所述密封腔内的物质。
百度查询： 亚申科技研发中心（上海）有限公司 美国亚申公司 物质处理装置及物质处理方法
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