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和共面波导集成的侧面进光的10Gb/sAPD管芯及其制作工艺 

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申请/专利权人:武汉电信器件有限公司

摘要:本发明公开了一种和共面波导集成的侧面进光的10GbsAPD管芯及其制作工艺,涉及一种和共面波导集成的侧面进光的10GbsAPD,尤其涉及一种二台阶连体式管芯的结构及其制作工艺。本管芯整体结构为一种和共面波导集成的、二台阶连体式管芯,从下到上,InP掺铁的半绝缘衬底、下台阶和上台阶依次连接;本管芯制作工艺包括MOCVD外延,PECVD,光刻与化学腐蚀,化学清洗,扩散,反应离子刻蚀,电子束蒸发,金属剥离,钝化处理,管芯分离;制作工艺最重要的是化学腐蚀和管芯分离。本管芯是高速率、长距离光通信系统的关键光电子器件;管芯和共面波导一体化设计与制作,不仅简化了工艺,降低了成本,而且减少了传输损耗,容易阻抗匹配;本发明解决了侧面进光面的平整性问题。

主权项:1、一种和共面波导集成的侧面进光的10GbsAPD管芯,其特征在于:本管芯整体结构为一种和共面波导集成的、二台阶连体式管芯,从下到上,InP掺铁的半绝缘衬底10、下台阶和上台阶依次连接;所述上台阶的结构是:从下到上,由依次连接的InAlAs下接触层7、InAlAs电倍增层6、InAlAs过渡及电荷层5、InGaAs光吸收层4、InAlAs上接触层3、InGaAs顶层2构成;上台面为梯形13-方形14-梯形13组合形状;所述下台阶的结构是:从上到下,由相互连接的SiO2+SiNx复合介质保护膜8、InP缓冲层9构成;下台面为长方形;在上台面和下台阶上分别设置P型电极和N型电极,上台面的P型电极和信号线1相连,下台阶的两个N型电极分别和两根地线11相连;所述的APD即雪崩光电二极管。

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权利要求:

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