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申请/专利权人:台湾积体电路制造股份有限公司
申请日:2005-03-10
公开(公告)日:2007-08-29
公开(公告)号:CN100334478C
专利技术分类:
专利摘要:一种微镜及微镜制造方法。包括:一种微镜,包括一基板、一反射层以及一保护层。反射层成形于该基板上,并且包括有纯铝。保护层成形于反射层上,并且包括有氮化钛。
专利权项:1.一种微镜,其特征在于,包括:一基板;一第一保护层,成形于所述的基板上;一反射层,成形于所述的第一保护层上,并且包括有纯铝;一处理层,成形于所述的反射层上;以及一第二保护层,成形于所述的处理层上,并且包括有氮化钛。
百度查询: 台湾积体电路制造股份有限公司 微镜及微镜制造方法
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