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申请/专利权人：友达光电股份有限公司
申请日：2009-12-10
公开（公告）日：2010-06-09
公开（公告）号：CN101724810A
专利技术分类：.局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种蒸发方法及蒸发设备。所述蒸发方法为：首先提供基板以及提供蒸发掩膜，其中蒸发掩膜上具有N个图案区域。另外，提供蒸发源，其中蒸发源具有多个蒸发区域，且蒸发源的每一个蒸发区域对应蒸发掩膜的至少一图案区域设置。接着，将蒸发掩膜设置于基板与蒸发源之间。之后，对基板进行第一次蒸发步骤。将基板转动90度之后，对基板进行第二次蒸发步骤。再次将基板转动90度之后，对基板进行第三次蒸发步骤。再次将基板转动90度之后，对基板进行第四次蒸发步骤。
专利权项：一种蒸发方法，其特征在于，所述蒸发方法包括：提供一基板；提供一蒸发掩膜，所述蒸发掩膜上具有N个图案区域；提供一蒸发源，其中所述蒸发源具有多个蒸发区域，每一个蒸发区域对应所述蒸发掩膜的至少一图案区域设置；将所述蒸发掩膜设置于所述基板与所述蒸发源之间；对所述基板进行一第一次蒸发步骤；将所述基板转动90度之后，对所述基板进行一第二次蒸发步骤；再次将所述基板转动90度之后，对所述基板进行一第三次蒸发步骤；以及再次将所述基板转动90度之后，对所述基板进行一第四次蒸发步骤。
百度查询： 友达光电股份有限公司 蒸发方法及蒸发设备
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