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申请/专利权人：友达光电股份有限公司
申请日：2008-11-06
公开（公告）日：2009-03-25
公开（公告）号：CN101392779A
专利技术分类：
专利摘要：本发明公开了一种结合结构，包含二被结合件及一结合件，各被结合件分别具有一接触平面，各接触平面上分别具有一凹槽；凹槽上分别具有一贯穿孔，二被结合件的凹槽对应结合形成一容置空间，且二被结合件除凹槽以外，其余的接触平面部分皆互相接触，结合件设置于容置空间中，其中结合件包含一板状主体及二锁附元件，二锁附元件设置于板状主体的二平面，用以分别先贯穿二被结合件的贯穿孔后，再锁附于二被结合件上，借以将二被结合件结合为一体。
专利权项：1、一种结合结构，其特征在于，所述结合结构包含：二被结合件，分别具有一接触平面，各所述接触平面上分别具有一凹槽，所述凹槽上分别具有一贯穿孔，所述凹槽对应结合形成一容置空间，且该二被结合件除所述凹槽以外，该二被结合件其余的接触平面部分皆互相接触；以及一结合件，设置于该容置空间中，该结合件包含一板状主体，且该板状主体的二平面分别设置一锁附元件，各所述锁附元件分别先贯穿所述贯穿孔后，再锁附于该二被结合件上。
百度查询： 友达光电股份有限公司 结合结构及结合方法
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