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光记录媒质专利

发布时间:2019-03-06 15:12:06 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 光记录媒质

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申请/专利权人:东丽株式会社

申请日:1997-12-16

公开(公告)日:1998-12-09

公开(公告)号:CN1201225A

专利技术分类:.按形状、结构或物理特性或所选用的材料区分的记录载体(按载体上信息的排列区分的入G11B7/007)[2013.01]

专利摘要:一种光记录媒质具有高硬度层、第一绝缘层、记录层、第二绝缘层和反射层。高硬度层的硬度大于第一绝缘层的硬度,并且第二绝缘层的厚度在3到50nm的范围内。这种可重写相变化式光记录媒质显示出在频繁重写扇区的写开始部分和写结束部分中减少损坏,并且具有好的抖动特性。

专利权项:1、一种具有记录层的光记录媒质,当照射来实施信息的记录和擦除时记录层能在非晶相和晶相之间经历相变化,所述媒质至少包括在基底上依次排列的高硬度层、第一绝缘层、记录层、第二绝缘层和反射层,其中高硬度层的硬度大于第一绝缘层并且第二绝缘层的厚度是从3到50nm。

百度查询: 东丽株式会社 光记录媒质

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