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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2011-06-17
公开（公告）日：2011-12-21
公开（公告）号：CN102289151A
专利技术分类：.涂层处理及其设备（用于基底材料涂层一般入B05；用于摄影目的而施加到基底上的感光成分入G03C1/74）[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种涂敷方法和涂敷装置，即使在涂敷液例如抗蚀剂液的供给量较少的情况下也能在基板的表面上均匀地形成涂敷膜。涂敷方法包括：预湿工序，将预湿液供给到基板W的中心，并且使基板旋转而使预湿液扩散到第1基板的整个表面上；涂敷膜形成工序，向供给了预湿液的基板供给涂敷液例如抗蚀剂液，使该涂敷液干燥，从而在上述第1基板的表面形成涂敷膜。采用比涂敷液的表面张力高的混合液体作为预湿液，通过使能够溶解涂敷膜成分例如抗蚀剂成分的溶剂、和表面张力高于该溶剂的高表面张力液体混合，获得上述混合液体。分别独立地准备溶剂和高表面张力液体，在供给预湿液时，使溶剂与高表面张力液体混合。
专利权项：一种涂敷方法，其特征在于，该方法包括：预湿工序，将预湿液供给到第1基板的中心，并且使上述第1基板旋转而使上述预湿液扩散到基板的整个表面上；涂敷膜形成工序，向供给了上述预湿液的上述第1基板供给涂敷液，使该涂敷液干燥，从而在第1基板的表面上形成涂敷膜，上述涂敷膜形成工序包括：在使上述第1基板旋转的状态下将涂敷液供给到上述第1基板的中心部的第1阶段；然后降低上述第1基板的旋转速度而继续使上述第1基板旋转的第2阶段；然后增加上述第1基板的旋转速度而使上述第1基板上的涂敷液干燥的第3阶段，在上述第1阶段中，在马上将上述涂敷液供给到上述第1基板上之前，使上述第1基板以恒定的第1速度旋转，在开始供给上述涂敷液后，连续地逐渐增加上述基板的旋转速度，在上述涂敷液喷出完毕之前，逐渐降低上述第1基板的旋转加速度，使基板的旋转向比上述第1速度快的第2速度接近，在上述预湿工序中，将表面张力高于上述涂敷液的混合液体用作上述预湿液，上述混合液体是通过将能溶解涂敷膜成分的溶剂、和表面张力高于上述溶剂的高表面张力液体混合而得到的。
百度查询： 东京毅力科创株式会社 涂敷方法和涂敷装置
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