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申请/专利权人:信越半导体股份有限公司;信越化学工业株式会社
申请日:2014-01-30
公开(公告)日:2015-10-28
公开(公告)号:CN105008278A
专利技术分类:
专利摘要:本发明提供一种碳化硅的制造方法,所述方法是在硅晶制造装置内设置碳材加热器,并在非氧化性环境下,通过所述碳材加热器加热并被容纳在容器内的硅熔体来制造硅晶,此时,在所述碳材加热器的表面附带地形成碳化硅,并通过回收该副产物碳化硅来制造碳化硅。由此,能够以低成本、低能耗来制造碳化硅。
专利权项:一种碳化硅的制造方法,其特征在于,在硅晶制造装置内设置碳材加热器,并在非氧化性环境下,由通过所述碳材加热器加热并被容纳在容器内的硅熔体来制造硅晶,此时,在所述碳材加热器的表面附带地形成碳化硅,并利用回收该副产物碳化硅来制造碳化硅。
百度查询: 信越半导体股份有限公司 信越化学工业株式会社 碳化硅的制造方法及碳化硅
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