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氧化镁薄膜专利

发布时间:2019-03-06 20:19:33 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 氧化镁薄膜

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申请/专利权人:宇部材料工业株式会社

申请日:2008-03-26

公开(公告)日:2012-03-21

公开(公告)号:CN101274821B

专利技术分类:..氧化物(C03C17/02优先)[2006.01]

专利摘要:本发明提供了一种用涂布法制造可见光透过性高的、而且耐溅射性高的氧化镁薄膜的技术。本发明如下制造膜厚为100~1000nm范围、白色光透过率在95%以上的氧化镁薄膜:在基板上涂布、并在干燥后烧成氧化镁微粒子分散液,所述氧化镁微粒子分散液分散有氧化镁作为利用动态光散射法测定的D50为5~40nm范围的微粒子,以下述含金属化合物所含金属的总摩尔含量相对于100摩尔的氧化镁为1.5~3.5摩尔范围的比例,含有属于碱土金属、稀土金属、长周期周期表中12族、13族、14族或15族金属的氧化物以外的含金属化合物,并将碳原子数3~5的一元醇作为分散介质。

专利权项:膜厚为100~1000nm范围、白色光透过率在95%以上的氧化镁薄膜的制造方法,该方法包括:在基板上涂布氧化镁微粒子分散液、并在干燥后烧成,所述氧化镁微粒子分散液分散有氧化镁作为利用动态光散射法测定的D50为5~40nm范围的微粒子,以下述含金属化合物所含金属的总摩尔含量相对于100摩尔的氧化镁为1.5~3.5摩尔范围的比例,含有含碱土金属、稀土金属、属于长周期周期表中12族、13族、14族或15族金属的除氧化物以外的含金属化合物,并将碳原子数3~5的一元醇作为分散介质。

百度查询: 宇部材料工业株式会社 氧化镁薄膜

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