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申请/专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日：2009-06-04
公开（公告）日：2011-06-29
公开（公告）号：CN102113083A
专利技术分类：..用于改变物体的特性或在其上加上薄层的，如离子注入（H01J37/36优先）[2006.01]
专利摘要：本发明涉及一种通过多个子束对目标进行曝光的方法。首先，提供多个子束，这些子束被布置成阵列。此外，提供要被曝光的目标。然后，产生多个子束与目标之间在第一方向的相对移动。最后，在第二方向上移动多个子束，使得每个子束在目标上曝光多个扫描线。在第一方向上的相对移动和多个子束在第二方向上的移动使得通过多个子束曝光的相邻扫描线之间的距离小于阵列中多个子束的子束之间在第一方向上的投影节距Pproj，X。
专利权项：一种通过多个子束对目标进行曝光的方法，该方法包括：‑提供多个子束，所述多个子束被布置成阵列；‑提供要被曝光的目标；‑产生所述多个子束与所述目标之间在第一方向上的相对移动；‑在第二方向上移动所述多个子束，使得每个子束在所述目标上曝光多个平行的扫描线；其中所述在第一方向上的相对移动和在所述多个子束在第二方向上的移动，使得通过所述多个子束曝光的相邻平行扫描线之间的距离小于阵列中的多个子束的子束之间在第一方向上的投影节距Pproj，X。
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