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溅射用镧靶专利

发布时间:2019-03-07 18:11:27 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 溅射用镧靶

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申请/专利权人:吉坤日矿日石金属株式会社

申请日:2010-03-17

公开(公告)日:2012-02-15

公开(公告)号:CN102356180A

专利技术分类:..溅射[2006.01]

专利摘要:本发明提供一种溅射用镧靶,其维氏硬度为60以上,并且表面无宏观形貌不均匀;还提供一种溅射用镧靶的制造方法,其特征在于,将镧熔炼、铸造而制造锭,然后在300~500℃的温度下对该锭进行揉锻,之后再在300~500℃下进行镦锻而将形状调节为靶原形,再对其进行机械加工而得到靶。本发明的课题在于提供可以有效且稳定地提供表面无宏观形貌不均匀的溅射用镧靶及其制造方法的技术。

专利权项:一种溅射用镧靶,其中,维氏硬度为60以上,并且表面无宏观形貌不均匀。

百度查询: 吉坤日矿日石金属株式会社 溅射用镧靶

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