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申请/专利权人：刘明辉
申请日：2016-05-16
公开（公告）日：2017-02-15
公开（公告）号：CN205949799U
专利技术分类：.用气压或真空压实的[2006.01]
专利摘要：本实用新型提出了一种顶射加底射的射砂结构，结构包括：侧壁上分别设有上加砂口和下加砂口的砂桶；上撑板、其下设有侧壁连接至上加砂口的上储砂箱，再下方设置有上砂型箱；下撑板、其上固定下储砂箱，所述下储砂箱侧壁设有可开闭进砂口，所述下储砂箱上方设有下砂型箱；所述上砂型箱和下砂型箱之间设有模具；所述砂桶连接有动力装置。该结构采用了上储砂箱和下储砂箱，用以接收砂桶内的砂料，使得合箱时，砂料可以由上储砂箱和下储砂箱直接射入上、下砂型箱，实现了顶射和底射同时加砂，改善了侧射砂造成的砂流动性受阻、填充不良等问题。
专利权项：一种顶射加底射的射砂结构，其特征在于，结构包括：砂桶，所述砂桶侧壁上分别设有上加砂口和下加砂口；上撑板、下撑板和带动下撑板上下移动的升降装置；所述上撑板下方固定有上储砂箱，所述上储砂箱侧壁设有连接至上加砂口的进砂口，所述上储砂箱下方设置有上砂型箱；所述下撑板上方固定设有下储砂箱，所述下储砂箱侧壁设有可开闭进砂口，所述下储砂箱上方设有下砂型箱；所述上砂型箱和下砂型箱之间设有模具；所述砂桶连接有动力装置。
百度查询： 刘明辉 顶射加底射的射砂结构
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