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表膜用膜和表膜专利

发布时间:2019-03-07 22:04:59 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 表膜用膜和表膜

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申请/专利权人:旭化成电子材料株式会社

申请日:2014-03-11

公开(公告)日:2015-11-11

公开(公告)号:CN105051604A

专利技术分类:.薄膜或薄膜集合,例如在支持框架上具有薄膜;其制备[2012.01]

专利摘要:提供对EUV光具有高透射性、具有实用上充分的物理强度和耐久性,并且能够容易地去除膜碎片、且生产率优异的表膜用膜和表膜。表膜用膜1由碳多孔体膜构成,膜厚D为100nm~63μm。

专利权项:一种表膜用膜,其由碳多孔体膜构成,膜厚D为100nm~63μm。

百度查询: 旭化成电子材料株式会社 表膜用膜和表膜

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