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申请/专利权人：索尼株式会社
申请日：2003-02-07
公开（公告）日：2008-01-30
公开（公告）号：CN100365773C
专利技术分类：......机械处理，例如研磨、抛光、切割[2006.01]
专利摘要：一种抛光垫，其在抛光之后能够很容易地将被抛光物体从抛光垫表面移走，能够减少用于抛光的抛光液的消耗量，并能够降低抛光垫的生产成本。其中，用于抛光被抛光物体的第一抛光垫1具有在厚度方向上穿透第一抛光垫1的多个狭槽11，该狭槽11在纵向方向上的长度优选不小于20mm，该狭槽11在宽度方向上的间距优选小于100mm，除了狭槽11之外，还可在第一抛光垫1中设置小孔未示出。
专利权项：1.一种用于抛光工件的抛光垫，其具有在厚度方向上穿透所述抛光垫的多个狭槽，其中所述狭槽形成为包括在所述抛光垫中，并且所述狭槽在纵向方向上的长度不小于20mm。
百度查询： 索尼株式会社 抛光垫、抛光装置及抛光方法
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