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申请/专利权人：东丽株式会社
申请日：1995-12-27
公开（公告）日：1997-04-09
公开（公告）号：CN1147215A
专利技术分类：
专利摘要：本发明涉及适用于在基片的平直表面上稳定地生产涂层的涂层方法与涂层设备，以及用来制造例如滤色片一类的有涂层的片状制品的方法。本发明的涂层方法的一个实施例是这样一种涂层方法，其中涂液供料器将涂液供给具有涂液排出槽的涂液涂布器，涂液涂布器或待涂层的基片两者中至少有一个相对于另一个运动，以在基片上形成预定厚度的涂层，此方法包括下述步骤：使基片静止地保持于此基片的涂层起始线与涂液涂布器的涂液排出槽对准的位置；开始通过涂液排出槽排出涂液；形成与涂液排出槽的排出口和基片的涂层起始线两者都接触的涂液珠；随后使此涂液供料器或基片中至少一个相对于另一个运动。此实施例的涂层方法能精确地测定涂层起始线和形成高精度的涂层，借助这种方法，能在涂液开始排出的同时使待涂层的基片仍然静止地与涂液排出槽对准，而确保涂液珠的形成，此基片则相对于涂液排出槽运动而使涂液珠稳定。
专利权项：1.一种涂层方法，其中，涂液供料器将涂液供给于具有涂液排出槽的涂液涂布器，此涂液涂布器或待涂层的基片两者中的至少一个相对于另一个运动，以在此基片上形成预定厚度的涂层，此方法包括下述步骤：使基片静止地保持于此基片的涂层起始线与涂液涂布器的涂液排出槽对准的位置；开始通过涂液排出槽排出涂液；形成与涂液排出槽的排出口和基片涂层起始线两者都接触的涂液珠；并随后使此涂液涂布器或此基片两者中的至少一个相对于另一个运动。
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