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申请/专利权人：欧朋达科技（深圳）有限公司
申请日：2018-06-07
公开（公告）日：2019-03-22
公开（公告）号：CN208635735U
专利技术分类：.用于计量深度[2006.01]
专利摘要：本实用新型涉及测距仪的技术领域，提供了一种槽深测量装置，包括：基座、X轴滑轨、Y轴滑轨、Z轴滑轨、用于固定待测物体的夹具，基座上设置有支撑架，支撑架包括架设于基座上方的横梁和设置在基座上并支撑在横梁下方的支撑柱，夹具滑设在X轴滑轨上，Y轴滑轨设置在横梁上，Z轴滑轨通过连接件滑设在Y轴滑轨上，Z轴滑轨上滑设有用于在夹具滑动至Z轴滑轨正下方时获取顶面与凹槽底面之间高度差的激光测距仪。本实用新型提供的槽深测量装置，激光测距仪能够对准待测量物体顶面上的任意一点进行测量，激光测距仪在测试的过程中不需要与待测物体直接接触，省去了调试激光测距仪与待测物体之间进行物理接触所需的时间，测量速度非常快。
专利权项：1.槽深测量装置，用于测量待测物体的顶面上的凹槽深度，包括：基座、X轴滑轨、Y轴滑轨、Z轴滑轨、用于固定待测物体的夹具，其特征在于：所述基座上设置有支撑架，所述支撑架包括架设于所述基座上方的横梁和设置在所述基座上并支撑在所述横梁下方的支撑柱，所述横梁与所述基座之间具有用于供所述夹具穿过的容置间隙，所述X轴滑轨设置在所述基座上并穿过所述容置间隙，所述夹具滑设在所述X轴滑轨上，所述Y轴滑轨设置在所述横梁上，所述Z轴滑轨通过连接件滑设在所述Y轴滑轨上，所述Z轴滑轨上滑设有用于在所述夹具滑动至所述Z轴滑轨正下方时获取所述顶面与所述凹槽底面之间高度差的激光测距仪。
百度查询： 欧朋达科技（深圳）有限公司 槽深测量装置
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