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申请/专利权人：长鑫存储技术有限公司
摘要：本发明提供一种光罩缺陷的清洁装置及清洁方法，清洁装置用于对待处理光罩上的待清洁缺陷进行清洁，待清洁缺陷形成于待处理光罩的待处理表面上，清洁装置包括：缺陷吸附组件，缺陷吸附组件与待处理表面之间具有间距，且缺陷吸附组件基于静电感应吸附待清洁缺陷，以实现待处理光罩的清洁。本发明在半导体光罩的缺陷移除过程当中，利用非破坏性的静电吸附原理与装备进行光罩缺陷的移除，从而达到光罩清洁的目的，采用本发明的方案，不仅可以实现光罩缺陷的去除，还可以在去除过程中防止光罩的保护薄膜受到皱折或破损，同时也可以防止保护薄膜受到刮伤，还可进一步实现光罩缺陷的全面性清洁，装置简便，清洁过程简捷，清洁速度快。
主权项：1.一种光罩缺陷的清洁装置，用于对待处理光罩上的待清洁缺陷进行清洁，所述待清洁缺陷形成于所述待处理光罩的待处理表面上，其特征在于，所述清洁装置包括：缺陷吸附组件，使用所述缺陷吸附组件对所述待处理表面上的所述待清洁缺陷进行清洁时，将所述缺陷吸附组件设置成与所述待处理表面之间具有间距，且所述缺陷吸附组件基于静电感应吸附所述待清洁缺陷，以实现所述待处理光罩的清洁。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 长鑫存储技术有限公司 光罩缺陷的清洁装置及清洁方法
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