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申请/专利权人：富士胶片株式会社
申请日：2019-01-09
公开（公告）日：2020-08-11
公开（公告）号：CN111527451A
专利技术分类：.涂层处理及其设备（用于基底材料涂层一般入B05；用于摄影目的而施加到基底上的感光成分入G03C1/74）[2006.01]
专利摘要：本发明的课题在于提供一种即使在应用于利用EUV曝光进行的抗蚀剂工艺时也具有优异的缺陷抑制性能的药液。并且，本发明的课题还在于提供一种药液的制造方法。本发明的药液含有：有机溶剂；Fe纳米粒子，含有Fe原子且粒径为0.5～17nm；及Pb纳米粒子，含有Pb原子且粒径为0.5～17nm，所述药液中，药液的每单位体积的、Fe纳米粒子的含有粒子数与Pb纳米粒子的含有粒子数的含有粒子数之比为1.0～1.0×104。
专利权项：1.一种药液，其含有：有机溶剂；Fe纳米粒子，含有Fe原子且粒径为0.5nm～17nm；及Pb纳米粒子，含有Pb原子且粒径为0.5nm～17nm，所述药液的每单位体积的、所述Fe纳米粒子的含有粒子数相对于所述Pb纳米粒子的含有粒子数的含有粒子数之比为1.0～1.0×104。
百度查询： 富士胶片株式会社 药液、药液的制造方法
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