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沉积装置及沉积方法专利

发布时间:2020-09-03 17:27:04 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 沉积装置及沉积方法

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申请/专利权人:POSCO公司

申请日:2018-10-19

公开(公告)日:2020-08-14

公开(公告)号:CN111542644A

专利技术分类:..真空蒸发[2006.01]

专利摘要:本发明提供能够以规定的涂覆组成和速度连续涂覆的装置及方法,作为一个实施例,本发明提供一种沉积装置,其为在基板上涂覆2种以上的化合物或元素的沉积装置,包括:供应单元,将所述2种以上的化合物或元素以多个固体形式供应;加热单元,使从所述供应单元供应的固体熔融并蒸发,以形成蒸气;缓冲单元,与所述加热单元连接,并且所述蒸气停留在其中并,与之前生成的蒸气混合;以及喷嘴,与所述缓冲单元连接,并朝向基板形成开口。

专利权项:1.一种沉积装置,其为在基板上涂覆2种以上的化合物或元素的沉积装置,包括:供应单元,将所述2种以上的化合物或元素以多个固体形式供应;加热单元,使从所述供应单元供应的固体熔融并蒸发,以形成蒸气;缓冲单元,与所述加热单元连接,并且所述蒸气停留在其中并与之前生成的蒸气混合;以及喷嘴,与所述缓冲单元连接,并朝向基板形成开口。

百度查询: POSCO公司 沉积装置及沉积方法

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