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申请/专利权人：克洛纳有限公司
申请日：2014-08-20
公开（公告）日：2020-12-08
公开（公告）号：CN104515962B
专利技术分类：...主磁场或梯度磁场的产生、均匀或稳定系统〔5〕
专利摘要：本发明涉及一种用于使磁场均匀化的均匀化装置1，其带有非磁性的支架2和由磁性材料构成的平衡元件3，其中，支架2具有支架壁部4且支架壁部4包围支架内腔5，其中，在布置在磁场中的均匀化装置1中磁场通过支架壁部4的第一支架区域6侵入支架内腔5中而通过支架壁部4的第二支架区域7从支架内腔5挤出，并且布置在支架2处的平衡元件3中的每个至少在支架内腔5中有助于磁场的均匀化。在根据本发明的均匀化装置1中，在均匀化期间操作被改善，亦即因为，在支架壁部4中设置有凹口8且在凹口8中的每个中可直接插入和取出平衡元件3中的至少一个。
专利权项：1.一种用于使磁场均匀化的均匀化装置1，其带有非磁性的支架2和至少部分地由磁性材料构成的平衡元件3，其中，所述支架2具有支架壁部4且所述支架壁部4包围支架内腔5，其中，在布置在所述磁场中的所述均匀化装置1中所述磁场通过所述支架壁部4的第一支架区域6侵入所述支架内腔5中而通过所述支架壁部4的第二支架区域7从所述支架内腔5挤出并且其中，布置在所述支架2处的所述平衡元件3中的每个至少在所述支架内腔5中有助于所述磁场的均匀化，其中，在所述支架壁部4中设置有凹口8且在所述凹口8中的每个中直接能够插入和能够取出所述平衡元件3中的至少一个，其中，所述凹口8中的至少一个具有凹口轴线14，所述平衡元件3中的至少一个仅通过沿着所述凹口轴线14运动能够插入所述凹口8中并且被插入所述凹口8中的所述平衡元件3的唯一的留下的平移自由度是沿着所述凹口轴线14的。
百度查询： 克洛纳有限公司 用于使磁场均匀化的均匀化装置
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