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申请/专利权人：株式会社村田制作所
申请日：2020-06-11
公开（公告）日：2020-12-15
公开（公告）号：CN112080783A
专利技术分类：.零散小件电镀用的装置[2006.01]
专利摘要：提供一种镀敷装置及镀敷方法，镀敷装置具备镀敷槽和镀敷部。镀敷部具备：隔壁，其是使镀敷液通过而不使被镀敷物通过的隔壁，构成被镀敷物在其内侧通过的被镀敷物通过区域；喷射部，其向上方喷射镀敷液；混合部，其将镀敷液与被镀敷物混合；阳极，其配设在被镀敷物通过区域的外侧；阴极，其配设在被镀敷物通过区域的内侧，具有使镀敷液与被镀敷物的混合流体朝向上方通过的中空区域；第一遮挡壁，其用于将通过了中空区域的混合流体向下方引导；以及第二遮挡壁，其配设在第一遮挡壁的外侧。第一遮挡壁的下端处于比第二遮挡壁的上端低的位置。
专利权项：1.一种镀敷装置，具备：镀敷槽，其贮存镀敷液；以及镀敷部，其设置在所述镀敷槽的内部，对被镀敷物实施电解镀覆，所述镀敷部具备：隔壁，其是使所述镀敷液通过而不使所述被镀敷物通过的隔壁，构成所述被镀敷物在其内侧从上方朝向下方通过的被镀敷物通过区域；喷射部，其从下方朝上方喷射所述镀敷液；混合部，其配设在比所述喷射部靠上方且比所述被镀敷物通过区域靠下方的位置，将由所述喷射部喷射出的所述镀敷液与通过了所述被镀敷物通过区域的所述被镀敷物混合；阳极，其配设在所述被镀敷物通过区域的外侧；阴极，其配设在所述被镀敷物通过区域的内侧，具有使由所述混合部混合的所述镀敷液与所述被镀敷物的混合流体从下方朝向上方通过的中空区域；第一遮挡壁，其配设在比所述阴极靠上方的位置，并且，在沿所述被镀敷物通过区域的延伸方向观察时配设在比所述阴极靠外侧的位置，用于将通过了所述中空区域的所述混合流体向下方引导；以及第二遮挡壁，其配设在所述第一遮挡壁的外侧，所述第一遮挡壁的下端处于比所述第二遮挡壁的上端低的位置。
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