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申请/专利权人：深圳市柔宇科技股份有限公司
申请日：2018-11-14
公开（公告）日：2021-04-23
公开（公告）号：CN112703470A
专利技术分类：....通过光电的方式[2006.01]
专利摘要：一种书写设备100和书写系统1000，书写设备100包括书写板10和书写控制笔20，书写板10包括书写区域12，书写区域12包括介质层126，介质层126基于目标参数的变化而改变显示属性；书写控制笔20包括笔尖23，以及通过笔尖23控制介质层126的目标参数的控制装置21。
专利权项：一种书写设备，包括书写板和书写控制笔，所述书写板包括书写区域，其特征在于，所述书写区域包括介质层，所述介质层基于目标参数的变化而改变显示属性；所述书写控制笔包括笔尖，以及通过所述笔尖控制所述介质层的所述目标参数的控制装置。
百度查询： 深圳市柔宇科技股份有限公司 书写设备和书写系统
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