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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2020-08-26
公开（公告）日：2022-04-15
公开（公告）号：CN114364990A
专利技术分类：.非SPM的分析装置，例如，SEM〔扫描电子显微镜〕，分光计或光学显微镜[2010.01]
专利摘要：一种带电粒子束系统可以包括初级源100、次级源200和控制器。初级源可以被配置为将带电粒子束241沿光轴发射到样本201的区域上。次级源可以被配置为辐照242样本的区域。控制器可以被配置为控制带电粒子束系统改变次级源的输出的参数。一种成像方法可以包括：将带电粒子束241发射到样本201的区域上，用次级源200辐照242样本的区域，以及改变次级源的输出的参数。
专利权项：1.一种带电粒子束系统，包括：初级源，被配置为将带电粒子束沿光轴发射到样本的区域上；次级源，被配置为辐照所述样本的所述区域；以及控制器，具有电路系统并且被配置为：控制所述带电粒子束系统以改变所述次级源的输出的参数；以所述次级源的所述输出的第一参数获取所述样本的第一图像；并且以所述次级源的所述输出的第二参数获取所述样本的第二图像。
百度查询： ASML荷兰有限公司 光电演化缺陷检查
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