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申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日：2020-04-27
公开（公告）日：2022-04-26
公开（公告）号：CN111378933B
专利技术分类：..真空蒸发[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种蒸发源、蒸发源系统，属于材料蒸镀技术领域，其可解决现有的蒸发源在长时间使用后容易出现所形成的膜层膜厚不均一的问题。本发明的蒸发源，用于蒸镀材料的蒸镀，包括：坩埚体，用于容置蒸镀材料；喷嘴，设置在所述坩埚体上，用于喷发所述蒸镀材料；角度板，设置在所述坩埚体上，且所述角度板在垂直于坩埚体的方向上的高度大于喷嘴在垂直于坩埚体的方向上的高度；所述角度板用于限制所述喷嘴的喷射范围；所述角度板靠近所述喷嘴的一侧具有容纳部，用于容纳部分蒸镀材料，以避免所述蒸镀材料影响所述喷射范围。
专利权项：1.一种蒸发源，用于蒸镀材料的蒸镀，其特征在于，包括：坩埚体，用于容置蒸镀材料；喷嘴，设置在所述坩埚体上，用于喷发所述蒸镀材料；角度板，设置在所述坩埚体上，且所述角度板在垂直于坩埚体的方向上的高度大于喷嘴在垂直于坩埚体的方向上的高度；所述角度板用于限制所述喷嘴的喷射范围；所述角度板靠近所述喷嘴的一面具有容纳部，用于容纳部分蒸镀材料，以避免所述蒸镀材料影响所述喷射范围。
百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 蒸发源、蒸发源系统
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