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申请/专利权人：大族激光科技产业集团股份有限公司;深圳市大族光伏装备有限公司
申请日：2022-06-30
公开（公告）日：2022-10-11
公开（公告）号：CN115172129A
专利技术分类：.充气放电管（放电加热的入H05B）[2006.01]
专利摘要：本申请适用于真空镀膜技术领域，提供一种气相沉积装置及气相沉积设备，该气相沉积装置包括安装座、基座、供气管、多个电极组件和多个射频电源，电极组件安装于安装座，任意两个电极组件之间绝缘设置；基座的顶部与电极组件的底部间隔且平行设置，基座的顶部用于放置待镀膜产品；射频电源的两个供电口分别与电极组件和基座电性连接，射频电源与电极组件一一对应设置，供气管用于向电极组件与基座之间提供等离子体。本申请的实施例每个电极组件都是独立的，可以通过调整射频电源，使得所有电极组件与基座之间的电势均相同，从而提高将等离子体镀在待镀膜产品上的均匀性，以提高镀膜质量。
专利权项：1.一种气相沉积装置，其特征在于，所述气相沉积装置包括：安装座；多个电极组件，所述电极组件安装于所述安装座，任意两个所述电极组件之间绝缘设置；基座，所述基座的顶部与所述电极组件的底部间隔且平行设置，所述基座的顶部用于放置待镀膜产品；多个射频电源，所述射频电源的两个供电口分别与所述电极组件和所述基座电性连接，所述射频电源与所述电极组件一一对应设置；供气管，所述供气管用于向所述电极组件与所述基座之间提供等离子体。
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