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光场成像方法、光场成像系统、光场相机及存储介质专利

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申请/专利权人:奕目(上海)科技有限公司

申请日:2022-07-18

公开(公告)日:2022-11-01

公开(公告)号:CN115278065A

专利技术分类:

专利摘要:本申请公开了一种光场成像方法,该方法包括:在光场相机主透镜后的微透镜阵列校正完成后,控制微透镜阵列在光场相机拍摄时沿一维方向移动;获得微透镜阵列沿一维方向多次移动后,光场相机在每次移动后拍摄的光场原图;对光场原图进行图像处理,得到光场原图对应的目标图像。本申请还公开了一种光场成像系统、光场相机及计算机可读存储介质。

专利权项:1.一种光场成像方法,其特征在于,所述方法包括:在光场相机主透镜后的微透镜阵列校正完成后,控制所述微透镜阵列在所述光场相机拍摄时沿一维方向移动;获得所述微透镜阵列沿所述一维方向多次移动后,所述光场相机在每次移动后拍摄的光场原图;对所述光场原图进行图像处理,得到所述光场原图对应的目标图像。

百度查询: 奕目(上海)科技有限公司 光场成像方法、光场成像系统、光场相机及存储介质

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