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申请/专利权人：广东技术师范大学
摘要：本发明公开了一种自适应均匀化动态软磨头辅助超声电化学抛光方法及装置,具体包括以下步骤：S1、通过压力反馈装置实现在线对刀并保持合适的压力作用；S2、纳米磨粒胶体溶液压入多孔质硬质磨盘内，并进入到可更换式抛光垫上；S3、通过具有压力反馈的高精度旋转超声平台和压力反馈装置，实现工件在电泳辅助抛光磨头下的旋转运动，并在磨粒层的作用下，达到抛光的效果。电泳辅助抛光磨头由可拔插式电泳辅助电极、电泳辅助电源、压力容腔、纳米磨粒胶体溶液、多孔质硬质磨盘和可更换式抛光垫组成，本发明纳米磨粒在线自组装，形成动态变化软磨头，自适应不同工件表面，完成机械磨削和电化学抛光共同作用，磨粒利用率高，对环境友好。
主权项：1.一种自适应均匀化动态软磨头辅助超声电化学抛光方法，其特征在于：具体包括以下步骤：S1、将工件28安装在具有压力反馈的高精度旋转超声平台17上，在集成控制柜12的控制下，通过机床主轴13及精密三维运动平台18的带动下，控制电泳辅助抛光磨头15和工件28的相对位置，通过压力反馈装置实现在线对刀并保持合适的压力作用；S2、通过压力容腔24的作用，把预先混合好的纳米磨粒胶体溶液25压入多孔质硬质磨盘26内，并进入到可更换式抛光垫27上，浸入可拔插式电泳辅助电极22与工件28表面，可拔插式电泳辅助电极22在电泳辅助电源23的控制下形成可控的电场环境，并根据纳米磨粒21的电泳特性，促使纳米磨粒21聚集到可拔插式电泳辅助电极22处，实现动态变化软磨头的磨粒层构建；S3、通过具有压力反馈的高精度旋转超声平台17和压力反馈装置，实现工件28在电泳辅助抛光磨头15下的旋转运动，并在磨粒层的作用下，达到抛光的效果。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 广东技术师范大学 自适应均匀化动态软磨头辅助超声电化学抛光方法及装置
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